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大幅缩量 下周变盘上还是下大盘能否扭转颓势

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    东吴证券:国产HBM产业链迎突破窗口期 设备环节弹性显著

    2025-06-23 10:07:03 来源:智通财经 已入驻财经号
      

    智通财经APP获悉,东吴证券发布研报称,当前算力需求爆发叠加外部对HBM在带宽等环节的管制,正加速刺激国产HBM的突破和供应。国产存储大客户HBM3已通过验证,底层DDR5颗粒制造能力达标,预计下半年实现量产突破,相关设备厂商已陆续获得TCB、CMP等环节订单。设备环节推荐受益较多的精智达(688627.SH),其订单弹性最大。

      

    东吴证券主要观点如下:

      

    算力需求爆发,叠加外部对HBM在带宽等环节的管制,将刺激国产HBM的突破和供应

      

    周五受国产存储大客户的HBM3通过验证的消息刺激,精智达、芯源微等核心标的涨幅明显。国产存储大客户已经具备DDR5颗粒的制造能力,传输速率等核心指标已经达成,只是目前在散热和能耗等方面还有提升空间。HBM3的底层存储颗粒具备量产条件。且已经有部分设备公司拿到了HBM相关的TCB和CMP等订单,国产HBM扩产的确定性在快速加强。

      

    测试机、键合解键合、CMP环节弹性最大

      

    目前各个关键工序如TCB、CMP、键合解键合、电镀、测试机均实现国产或较容易买到,颗粒具备量产条件+各关键工序的设备处于ready状态,该行认为国产HBM的突破将落在今年下半年!预期今年HBM的扩产量级有望实现5000片的8层晶圆。扩产将为TCB、CMP、键合解键合、电镀、测试机(专指HBM专用CP测试机—KGSD)环节分别带来1.6亿、10亿、6亿、4亿、7亿的订单增量。

      

    国产HBM扩产同样利好前道设备,对应DRAM扩产产生新增量

      

    HBM扩产需要底层的DRAM颗粒,目前市场预期此次HBM扩产量级为5000片的8层晶圆,则对应4万片的底层DDR5扩产,对应约350亿的设备资本开支增量。对刻蚀、薄膜沉积、清洗、CMP等环节分别带来85亿、70亿、16亿、11亿的市场增量。其余前道设备也将受益。

      

    风险提示:产业进展不及预期/需求不及预期。

      

      【免责声明】本文仅代表作者本人观点,与和讯网无关。和讯网站对文中陈述、观点判断保持中立,不对所包含内容的准确性、可靠性或完整性提供任何明示或暗示的保证。请读者仅作参考,并请自行承担全部责任。邮箱:news_center@staff.hexun.com   

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